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煙氣分析儀器ENDA-C9000 NOX

產(chǎn)(chǎn)品大圖
  • 煙氣分析儀器ENDA-C9000 NOX
  • HORIBA堀場(chǎng)
  • ENDA-C9000 NOX
  • 日本
  • 電議
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產(chǎn)(chǎn)品詳細(xì)(xì)介紹

  

仕様

ENDA-C9000シリーズラインアップ
 

NH3

NOX

O2

C9120

 

 

C9170

   

C9170A   

   

C9220

 

C9330

 

C9330A

 

C9430

C9430A

*C9170, C9330, C9430はNH3觸媒に還元觸媒法を使用。
  C9170A, C9330A, C9430AはNH3觸媒に酸化觸媒法を使用。

測(cè)定成分とレンジ

成分

測(cè)定方法

標(biāo)(biāo)準(zhǔn)(zhǔn)レンジ

オプションレンジ

レンジ比

NH3

化學(xué)(xué)発光法

20-100ppm

10-20ppm未満

最大10倍

NOX

化學(xué)(xué)発光法

20-100ppm

10-20ppm未満

最大10倍

O2

磁気圧力法

5-25vol%

-

最大5倍

? レンジ數(shù)(shù)は各成分最大3レンジ ? O2を含む最大3成分同時(shí)測(cè)定

 

-5~40°C仕様

40~50°C仕様

繰返し性

フルスケールの±0.5%

フルスケールの±1.0%

ドリフト (NOX計(jì)として)

ゼロドリフト標(biāo)(biāo)準(zhǔn)(zhǔn)レンジ: フルスケールの±1.0%/週
ゼロドリフトオプションレンジ: フルスケールの±2.0%/週
スパンドリフト: フルスケールの±2.0%/週
(週溫度変化±5°C)

ゼロドリフト標(biāo)(biāo)準(zhǔn)(zhǔn)レンジ: フルスケールの±2.0%/週
ゼロドリフトオプションレンジ: フルスケールの±2.0%/週
スパンドリフト: フルスケールの±2.0%/週
(週溫度変化±5°C)

応答時(shí)間

裝置入口より Td+T90 90秒以下
校正ガス入口より Td+T90 70秒以下

表示

タッチパネルによる畫(huà)面切り替え(測(cè)定畫(huà)面、校正レンジ?校正ガス?jié)舛仍O(shè)(shè)定畫(huà)面、校正周期設(shè)(shè)定畫(huà)面、保守畫(huà)面など)

サンプリング方式

露點(diǎn)(diǎn)2.5°C(電子冷卻器2 段、減圧サンプリング)

サンプルガス

流量: 各ライン1.5 L/min   圧力: ± 10 kPa  

圧力制御方式

調(diào)(diào)圧器による減圧サンプリング方式

電源電圧

AC100V±15%、50/60Hz 共用 (47.5-63.0Hz)

校正

自動(dòng)校正方式(校正周期1?99 日)
ゼロガス:Nボンベ   O2 計(jì)用キャリアガス:N2 ボンベ(ゼロガス共用)
スパンガス:測(cè)定成分ガスボンベ

寸法/質(zhì)(zhì)量

800mm(W) × 800mm(D) × 1800mm(H)  / 450kg (ボンベは除く)

 設(shè)(shè)置條件

環(huán)(huán)境溫度:-5 °C?40°C  直射日光?輻射熱のないこと。
(-15°C?50°C(寒冷地仕様)については別途対応します。)
濕度:90 %以下 粉塵:環(huán)(huán)境基準(zhǔn)(zhǔn)以下  振動(dòng):100 Hz. 0.29 m/s2 以下

サンプル條件   (還元觸媒法の時(shí))

溫度: 300~400°C   ダスト:0.1 g/ Nm3以下
組成: NO  500 ppm 以下     CO   500 ppm 以下 
      NO2 15 ppm 以下      CO2  15 vol%以下
      SO2  200 ppm 以下     H2O 4~20 vol%以下
SO3 10 ppm 以下       NH3  200 ppm以下
 その他組成 HFHCl、Cl2 等腐食性ガスおよび反応性ガスを含まないこと。

外形寸法図?他(単位:mm)

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