不使用摩擦、藥物等物理處理方式，使用電子線、放射線、紫外線等高能量進(jìn)行表面處理的一項(xiàng)技術(shù)。

紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)(chǎn)業(yè)(yè)的發(fā)(fā)展而提出來的。七十年代中期美國軍事電子技術(shù)和器件實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)(chǎn)品的工業(yè)(yè)生產(chǎn)(chǎn)過程，并開始向我國個別外資LCD企業(yè)(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后，日本在發(fā)(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時，紫外光表面改質(zhì)(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)(fā)展。

在二十世紀(jì)末，日本等先進(jìn)工業(yè)(yè)國家紫外光表面清洗和改質(zhì)(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)(chǎn)業(yè)(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)(yè)生產(chǎn)(chǎn)過程。二十世紀(jì)九十年代后期，我國的信息技術(shù)和產(chǎn)(chǎn)業(yè)(yè)以驚人的速度飛速發(fā)(fā)展，特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)(fā)展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產(chǎn)(chǎn)品也開始進(jìn)入市場。由此，對制備工藝過程表面質(zhì)(zhì)量要求越來越嚴(yán)格，紫外光表面清洗技術(shù)的優(yōu)(yōu)越性已經(jīng)(jīng)得到廣泛認(rèn)可，UV光清洗機(jī)的需求量正在不斷增長。

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VUV低壓紫外汞燈能同時發(fā)(fā)射波長254nm和 185nm的紫外光，這兩種 波長的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價鍵，使有機(jī)物分子活化，分解成離子、游離態(tài)(tài)原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)(xù)進(jìn)行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強(qiáng)烈的氧化作用，與活化了的有機(jī)物（即碳?xì)浠銜錚┓腫影l(fā)(fā)生氧化反應(yīng)，生成揮發(fā)(fā)性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。